Fotorresist de película seca de alta resolución HC-1540
Descripción del producto
HC-1540 es una fotoresistencia de película seca de alta resolución diseñada para circuitos de precisión y fabricación de PCB fino-pattern. Proporciona una fuerte adherencia, alta resolución de imágenes, y un amplio rango de operación estable, soportando la formación de patrones precisos y un rendimiento de procesamiento consistente. Su sistema de desarrollo soluble en agua permite un procesamiento eficiente y limpio.
Especificaciones técnicas
Parámetros técnicos
Valor típico
Espesor de la película seca
38 µm
Energía de exposición difusa
60 mJ/cm² (50–70 mJ/cm²)
Energía de exposición climatizada
53 mJ/cm² (38–74 mJ/cm²)
Condiciones de desarrollo
0.8–1.2% Na₂CO₃ , 30 ± 2°C , 30–40 s mínimo
Resolución
40 µm
Adherencia
35 µm
Condicion de desnudamiento
5% NaOH, 50°C, 60 s
Resistencia de la película de PE
6 N/m
Características clave
Alta resolución： Soporta la formación de patrones de línea fina para aplicaciones flexibles PCB y circuitos de alta densidad.
Excelente fotosensibilidad： Proporciona un rendimiento de exposición consistente para una transferencia de imagen confiable durante la fabricación de PCB.
Adherencia fuerte： Proporciona buena adherencia al sustrato, ayudando a mantener la integridad del patrón durante el procesamiento.
Respuesta rápida a la exposición： Apoya procesos eficientes de exposición y rendimiento estable de producción.
Revelado acuoso： Diseñado para el desarrollo soluble en agua para apoyar el procesamiento eficiente y limpio.
Formato de producto " Dimensiones
Tema
Especificación
Espesor de película seca
38 µm
Ancho de película seca disponible
200–600 mm; corte a la anchura especificada
Longitud estándar de la película seca
656 ft (200 m)
Condiciones de procesamiento recomendadas
Paso
Condiciones recomendadas
Pretratamiento de la Junta
Quitar escombros, aceite y óxidos; enjuague y seque. Se puede utilizar tejido no tejido y tratamiento de pumice.
Laminación
Temperatura del rodillo 110 ± 10°C; presión 4-5 kg; velocidad manual 1.0–1.5 m/min o velocidad automática 2.0–3.0 m/min.
Mantenerse antes de la exposición
Bajo luz segura naranja: 20 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 5 min.
Exposición
Utilice una guía de exposición de 21 pasos a 6-8 pasos; las fuentes de exposición adecuadas incluyen lámpara de mercurio y LED.
Mantenerse después de la exposición
23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
Revelado
0.8–1.2% anhydrous sodium carbonate at 30 ± 2°C ; presión de pulverización 0.12–0.20 MPa .
Eliminación del resist
Hidróxido de sodio de 3-5 wt% a 50 ± 5°C; presión de aerosol ≥ 0.2 MPa.
Directrices de seguridad y almacenamiento
Utilice el producto sólo bajo iluminación adecuada de seguridad; evite la luz solar directa y la exposición prolongada a la luz blanca.
Evite el contacto directo con la capa fotosensible. Si el contacto ocurre, lave a fondo; si entra en los ojos, enjuague con agua y busque atención médica.
Use el escape local o general durante la laminación. Use la protección adecuada del ojo y de la mano al manejar desarrollador de alcalina o stripper.
Almacene horizontalmente en un lugar fresco y seco a 5–20°C y 40–60% RH. Use dentro de 60 días.
