Сухоплёночный фоторезист высокого разрешения HC-1540
Обзор продукта
HC-1540 представляет собой фоторезист сухих пленок высокого разрешения, предназначенный для точной схемы и тонкого шаблона производства печатных плат. Он обеспечивает сильную адгезию, высокое разрешение изображения и широкий, стабильный рабочий диапазон, поддерживая точное формирование рисунка и последовательную производительность обработки. Его водорастворимая система разработки обеспечивает эффективную и чистую обработку.
Технические характеристики
Технические параметры
Типичное значение
Толщина сухой плёнки
38 µm
Энергия диффузного воздействия
60 mJ/cm² (50–70 mJ/cm²)
Коллимированная энергия экспозиции
53 mJ/cm² (38–74 mJ/cm²)
Условия разработки
0.8–1.2% Na₂CO₃ , 30 ± 2°C , 30–40 s минимальный
Разрешение
40 µm
Адгезия
35 µm
Условие Удаление фоторезистаа
5% NaOH, 50°C, 60 s
PE Film Сила
6 N/m
Ключевые особенности
Высокая разрешающая способность： Поддерживает тонколинейное формирование шаблонов для гибких приложений PCB и схем высокой плотности.
Высокая светочувствительность： Обеспечивает согласованную производительность экспозиции для надежной передачи изображения во время производства печатной платы.
Сильная адгезия： Обеспечивает хорошую адгезию к подложке, помогая поддерживать целостность рисунка во время обработки.
Быстрый отклик при экспонировании： Поддерживает эффективные процессы воздействия и стабильные производственные показатели.
Водное проявление： Предназначен для водорастворимой разработки для поддержки эффективной и чистой переработки.
Формат продукта и размеры
Пункт
Спецификация
Толщина сухой пленки
38 µm
Доступна сухая ширина пленки
200-600 мм; щель до указанной ширины
Стандартная длина сухой пленки
656 ft (200 m)
Рекомендуемые условия обработки
Шаг вперед
Рекомендуемое условие
Предварительная обработка на борту
Удалить мусор, масло и оксиды; прополоскать и высушить. Можно использовать нетканые ткани и пемзу.
Ламинирование
температура качения 110 ± 10°C ; давление 4–5 кг; механическая скорость 1.0–1.5 m/min Автоматическая скорость 2.0–3.0 m/min .
Используйте 21-ступенчатое руководство по экспозиции на 6-8 этапах; подходящие источники воздействия включают ртутную лампу и светодиод.
Держитесь после экспозиции
23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
Проявление
0.8–1.2% безводный карбонат натрия в 30 ± 2°C ; давление спрея 0.12–0.20 MPa .
Удаление фоторезиста
3–5 wt% гидроксид натрия в 50 ± 5°C ; давление спрея ≥ 0.2 MPa .
Руководство по безопасности и хранению
Используйте продукт только при соответствующем безопасном освещении; избегайте прямых солнечных лучей и длительного воздействия белого света.
Избегайте прямого контакта с фоточувствительным слоем.Если контакт происходит, тщательно промойте; если он попадает в глаза, прополощите водой и обратитесь за медицинской помощью.
Используйте локальные или общие выхлопы во время ламинирования. Носите подходящую защиту глаз и рук при обращении с щелочным разработчиком или Удаление фоторезистаершей.
Храните горизонтально в прохладном, сухом месте при 5-20°C и 40-60% RH. Используйте в течение 60 дней.
