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고해상도 드라이 필름 포토레지스트 HC-1540

제품 개요

HC-1540 dry film photoresist rolls

HC-1540은 정밀 회로 및 미세 패턴 PCB 제조용 고해상도 드라이 필름 포토레지스트입니다. 우수한 접착력과 이미징 해상도, 넓고 안정적인 공정 범위를 제공하여 정확한 패턴 형성과 일관된 가공 성능을 지원합니다. 수용성 현상 시스템은 효율적이고 청결한 가공을 돕습니다.

기술 사양

기술 매개변수대표값
드라이 필름 두께38 µm
Diffuse 노광 에너지60 mJ/cm² (50–70 mJ/cm²)
Collimated 노광 에너지53 mJ/cm² (38–74 mJ/cm²)
개발방법0.8–1.2% Na₂CO₃ , 30 ± 2°C , 30–40 s 적용 분야
해상도40 µm
밀착성35 µm
박리 성능5% NaOH, 50°C, 60 s
PE 필름 힘6 N/m

핵심 특징

고해상도:
유연한 PCB 및 고밀도 회로 응용 분야에 대한 정밀한 라인 패턴 형성을 지원합니다.

우수한 감광성:
PCB 제조 중에 신뢰할 수있는 이미지 전송에 대한 일관된 노출 성능을 제공합니다.

강한 접착:
기판에 좋은 접착을 제공, 처리 중 패턴 무결성을 유지 돕는다.

빠른 노광 응답:
효율적인 노출 프로세스 및 안정적인 생산 성능을 지원합니다.

수용성 현상:
수용성 현상을 위해 효율적이고 깨끗한 가공을 지원합니다.

제품 체재 & 차원

두께주요 특징
드라이 필름 두께38 µm
유효한 드라이 필름 폭200-600 mm; 지정된 폭에 틈새
표준 드라이 필름 길이656 ft (200 m)

미해결

해상도삼성미해결
보드 전처리debris, 기름 및 산화물을 제거하십시오; 헹구고 말리십시오. 짠것이 아닌 직물 및 pumice 처리는 사용될지도 모릅니다.
라미네이션목록 온도 110 ± 10°C; 압력 4–5 kg; 수동 속도 1.0–1.5 m/min 또는 자동 속도 2.0–3.0 m/min.
노출 전 유지주황색 안전 빛의 밑에: 20 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 5 분.
노광6-8 단계에 21 단계 노출 가이드를 사용하십시오; 적당한 노출 근원은 수은 램프와 LED를 포함합니다.
노출 후 유지23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
현상0.8-1.2% 30 ± 2°C에 무수 나트륨 탄산염; 살포 압력 0.12–0.20 MPa.
박리50 ± 5°C에 3–5 wt% 염화 나트륨 수산화물; 살포 압력 ≥ 0.2 MPa.

안전 & 저장 Guidelines

  • 적합한 안전 점화의 밑에 제품만 사용하십시오; 직접적인 햇빛을 피하고 백색 빛에 머리말을 붙였습니다.
  • 감광성 층과 직접적인 접촉을 피하십시오. 접촉이 생기면, 완전히 세척하십시오; 그것이 눈, 물로 헹구고 의학 주의를 추구하는 경우에.
  • 박판 도중 국부적으로 일반적인 배기를 이용하십시오. 알칼리성 개발자 또는 스트리퍼를 취급할 때 적당한 눈 및 손 보호를 착용하십시오.
  • 5-20 °C 및 40-60% RH에서 냉각하고 건조한 장소에서 수평으로 저장하십시오. 60 일 안에 사용.

견적 요청 — HC-1540