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高解析度感光干膜 HC-1540

产品概述

HC-1540 dry film photoresist rolls

HC-1540 是一款用于精密电路和精细图形 PCB 制造的高分辨率干膜光刻胶。它具有良好的附着力、高成像分辨率和宽而稳定的工艺窗口,支持准确的图形形成及一致的加工表现。水溶性显影体系有助于提高加工效率和洁净度。

技术规格

技术参数典型值
干膜厚度38 µm
Diffuse 曝光能量60 mJ/cm² (50–70 mJ/cm²)
缩合曝光能量53 mJ/cm² (38–74 mJ/cm²)
显影条件0.8–1.2% Na₂CO₃ , 30 ± 2°C , 30–40 s 最低
分辨率40 µm
附着力35 µm
退膜条件5% NaOH, 50°C, 60 s
PE 电影实力6 N/m

关键特性

高分辨率:
支持弹性PCB和高密度电路应用的细线型形成.

优异的感光性:
为PCB制造过程中可靠的图像传输提供一致的曝光性能。

坚固的坚韧:
为底物提供良好的粘合,帮助在加工过程中保持图案完整性.

快速曝光响应:
支持高效的曝光工艺和稳定的生产性能.

水溶性显影:
设计用于水溶性显影,支持高效清洁加工.

产品格式和尺寸

项目规格
干薄膜厚度38 µm
可用干膜宽度200-600毫米;切到指定的宽度
标准干膜长度656 ft (200 m)

建议的处理条件

步骤建议的条件
董事会预处理清除碎片、油和氧化物;冲洗和干燥;可使用不编织的布料和铝处理。
贴膜滚动温度110±10°C;压力4–5公斤;手动速度1.0–1.5米/min或自动速度2.0–3.0米/min.
曝光前保持状态橙色安全灯下:20±2°C,60±10%RH,5分钟.
曝光在6至8步使用21步曝光指南;合适的曝光来源包括汞灯和LED。
曝光后保持状态23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
显影30±2°C时为碳酸无水钠0.8-1.2 %;喷压0.12-0.20 MPa.
退膜50 ± 5°C时,3 – 5 wt%的氢氧化钠;喷压 ± 0.2 MPa.

安全和储存准则

  • 只有在适当的安全贴膜下才能使用该产品;避免直接阳光和长时间曝光于白光之下.
  • 避免直接接触光敏层。如果发生接触,请彻底洗涤;如果进入眼睛,请用水冲洗,并寻求治疗。
  • 在贴膜过程中使用局部或一般排气,在处理碱性显影者或脱衣舞者时佩戴合适的眼罩和手保护.
  • 水平存储在5-20°C和40-60%RH的冷却干燥处。在60天内使用。

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