Top.Mail.Ru

Yüksek Çözünürlüklü Kuru Film Fotorezist HC-1540

Ürüne Genel Bakış

HC-1540 dry film photoresist rolls

HC-1540, hassas devreler ve ince desenli PCB üretimi için tasarlanmış yüksek çözünürlüklü bir kuru film fotorezisttir. Doğru desen oluşumunu ve tutarlı işleme performansını destekleyen güçlü yapışma, yüksek görüntüleme çözünürlüğü ve geniş, istikrarlı bir çalışma aralığı sağlar. Suda çözünebilen geliştirme sistemi verimli ve temiz işleme sağlar.

Teknik Özellikler

Teknik ParametreTipik Değer
Kuru Film Kalınlığı38 µm
Yaygın pozlama Enerjisi60 mJ/cm² (50–70 mJ/cm²)
Yönlendirilmiş pozlama Enerjisi53 mJ/cm² (38–74 mJ/cm²)
Gelişen Koşullar%0,8–1,2 Na₂CO₃, 30 ± 2°C, minimum 30–40 sn
Çözünürlük40 µm
Yapışma35 µm
Sıyırma Durumu%5 NaOH, 50°C, 60 sn
PE Film Mukavemeti6 N/m

Temel Özellikler

Yüksek Çözünürlük:
Esnek PCB ve yüksek yoğunluklu devre uygulamaları için ince çizgi deseni oluşumunu destekler.

Mükemmel Işığa Duyarlılık:
PCB üretimi sırasında güvenilir görüntü aktarımı için tutarlı pozlama performansı sağlar.

Güçlü Yapışma:
Alt tabakaya iyi bir yapışma sağlayarak işleme sırasında desen bütünlüğünün korunmasına yardımcı olur.

Hızlı Pozlama Tepkisi:
Verimli pozlandırma süreçlerini ve istikrarlı üretim performansını destekler.

Suda Çözünür Geliştirme:
Verimli ve temiz işlemeyi desteklemek amacıyla suda çözünür geliştirme için tasarlanmıştır.

Ürün Formatı ve Boyutları

ÖğeŞartname
Kuru film kalınlığı38 µm
Mevcut kuru film genişliği200–600 mm; belirtilen genişliğe kadar yarık
Standart kuru film uzunluğu656 ft (200 m)

Önerilen İşleme Koşulları

AdımÖnerilen koşul
Levha ön işlemiPisliği, yağı ve oksitleri çıkarın; durulayın ve kurulayın. Dokunmamış kumaş ve pomza işlemi kullanılabilir.
LaminasyonRulo sıcaklığı 110 ± 10°C; basınç 4–5 kg; manuel hız 1,0–1,5 m/dak veya otomatik hız 2,0–3,0 m/dak.
Pozlamadan önce tutTuruncu güvenli ışık altında: 20 ± 2°C, 60 ± %10 RH, 5 dk.
Pozlama6-8 adımda 21 adımlı bir pozlama kılavuzu kullanın; uygun pozlama kaynakları arasında cıva lambası ve LED bulunur.
Pozlamadan sonra tut23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
Banyo (geliştirme)30 ± 2°C'de %0,8–1,2 susuz sodyum karbonat; püskürtme basıncı 0,12–0,20 MPa.
Film Sökme50 ± 5°C'de ağırlıkça %3–5 sodyum hidroksit; püskürtme basıncı ≥ 0,2 MPa.

Güvenlik ve Depolama Yönergeleri

  • Ürünü yalnızca uygun güvenlik aydınlatması altında kullanın; doğrudan güneş ışığından ve uzun süre beyaz ışığa pozlamaktan kaçının.
  • Işığa duyarlı katmanla doğrudan temastan kaçının. Temas halinde iyice yıkayın; göze kaçarsa suyla yıkayın ve tıbbi yardım alın.
  • Laminasyon sırasında yerel veya genel egzoz kullanın. Alkali banyo çözeltisi veya striptizciyi kullanırken uygun göz ve el koruması kullanın.
  • Serin ve kuru bir yerde, 5–20°C'de ve %40–60 bağıl nemde yatay olarak saklayın. 60 gün içerisinde kullanın.

Teklif Al — HC-1540