Qu’est-ce que le développement du film sec ?
Le développement élimine les zones non exposées du film sec tout en conservant les zones exposées et réticulées, révélant ainsi le motif du circuit.
Mécanisme du développement
La partie non exposée contient des groupes fonctionnels actifs qui réagissent avec une solution faiblement alcaline. Le support de formation décrit la réaction impliquant les groupes carboxyle et le carbonate de sodium. Le film exposé est réticulé et reste donc en place pendant le développement.
Paramètres de référence
- Révélateur : 0.8–1.2% Na₂CO₃·H₂O
- Température : 28–32°C
- Point de développement : 45–65% de la longueur de la chambre
- Durée : 24–30 secondes
- Pression : 1.5–2.0 kg/cm²
- Température de séchage : 60–80°C
Contrôle du point de développement
- En dessous de 45% : le développement peut être excessif et favoriser le décollement et les circuits ouverts.
- Au-dessus de 65% : le développement peut être insuffisant et favoriser les courts-circuits.
Conclusion
Un développement stable exige la maîtrise de la chimie et des paramètres du procédé. Les plages de référence proviennent du support de formation et doivent être vérifiées pour le film sec et l’équipement utilisés.