Что такое проявление сухого плёночного фоторезиста?
При проявлении удаляются неэкспонированные участки сухого плёночного фоторезиста, а экспонированные участки со сшитой структурой сохраняются, формируя рисунок схемы.
Механизм проявления
Неэкспонированная часть содержит активные функциональные группы, реагирующие со слабощелочным раствором. В учебных материалах описана реакция с участием карбоксильных групп и карбоната натрия. Экспонированная плёнка имеет сшитую структуру и поэтому сохраняется при проявлении.
Рекомендуемые параметры
- Проявитель: 0.8–1.2% Na₂CO₃·H₂O
- Температура: 28–32°C
- Точка проявления: 45–65% длины камеры проявления
- Время: 24–30 секунд
- Давление: 1.5–2.0 kg/cm²
- Температура сушки: 60–80°C
Контроль точки проявления
- Ниже 45%: возможно чрезмерное проявление, способствующее отслаиванию и обрывам цепей.
- Выше 65%: возможно недостаточное проявление, способствующее коротким замыканиям.
Заключение
Стабильное проявление требует контроля химического состава и параметров процесса. Рекомендуемые диапазоны приведены в учебных материалах и должны проверяться для конкретной плёнки и оборудования.