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Photorésist en film sec HC-1538 pour cuivre épais

Présentation du produit

HC-1538 dry film photoresist rolls

HC-1538 est un photorésiste à film sec conçu pour les applications de cuivre lourd et de placage de cuivre. Il offre une forte adhérence, une haute résolution et une bonne résistance pendant les processus de placage de cuivre, aidant à maintenir l'intégrité des motifs et la qualité d'imagerie tout au long de la fabrication de PCB.

Caractéristiques techniques

Paramètres techniquesValeur typique
Épaisseur du film sec38 µm
Énergie diffuse d'exposition50 mJ/cm² (40–60 mJ/cm²)
Énergie d'exposition collimatée48 mJ/cm² (38–74 mJ/cm²)
Développement des conditions0.8–1.2% Na₂CO₃ , 30 ± 2°C , 30–40 s minimum
Résolution55 µm (SST = 7/21)
Adhérence50 µm (SST = 7/21)
Condition de décapage5% NaOH, 50°C, 60 s
La force du film PE6 N/m
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Principales caractéristiques

Haute résolution:
Prend en charge la définition de profil de ligne fine stable pour la formation de circuit de cuivre lourd PCB.

Excellente photosensibilité:
Fournit une performance d'exposition constante pour un transfert d'image fiable pendant la fabrication des BPC.

Une forte adhérence:
Fournit une bonne adhésion au substrat, aidant à maintenir l'intégrité des patrons pendant le traitement.

Réponse rapide à l’exposition:
Soutient des processus d'exposition efficaces et des performances de production stables.

Développement aqueux:
Conçu pour le développement soluble dans l'eau avec un traitement propre et efficace.

Format et dimensions du produit

PointSpécification
Épaisseur du film sec38 µm
Largeur du film sec disponible200–800 mm; fente à la largeur spécifiée
Longueur standard du film sec656 ft (200 m)

Conditions de traitement recommandées

ÉtapeÉtat recommandé
Prétraitement par le ConseilEnlever les débris, l'huile et les oxydes; rincer et sécher.
LaminageTempérature du rouleau 110 ± 10°C ; pression 4–5 kg; vitesse manuelle 1.0–1.5 m/min ou à vitesse automatique 2.0–3.0 m/min .
Suspension avant expositionSous une lumière orange sans danger: 20 ± 2°C, 60 ± 10 % HR, 5 min.
ExpositionUtiliser un guide d'exposition en 21 étapes à 6-8 étapes; les sources d'exposition appropriées comprennent la lampe au mercure, les LED et l'imagerie au laser.
Suspension après exposition23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
Développement0.8–1.2% carbonate de sodium anhydre à 30 ± 2°C ; pression de pulvérisation 0.12–0.20 MPa .
Décapage3–5 wt% hydroxyde de sodium à 50 ± 5°C ; pression de pulvérisation ≥ 0.2 MPa .

Lignes directrices en matière de sécurité et de stockage

  • N'utilisez le produit que sous un éclairage de sécurité approprié; évitez le soleil direct et l'exposition prolongée à la lumière blanche.
  • Éviter tout contact direct avec la couche photosensible. En cas de contact, laver soigneusement; s'il entre dans les yeux, rincer à l'eau et consulter un médecin.
  • Utilisez les gaz d'échappement locaux ou généraux pendant la laminage. Portez une protection appropriée des yeux et des mains lors de la manipulation du développeur alcalin ou du strip-teaseur.
  • Conserver horizontalement dans un endroit frais et sec à 5 à 20 °C et 40 à 60 % HR. Utiliser dans les 60 jours.

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