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Fotorresist de película seca de alta sensibilidad HC-1538B para galvanizado de cobre grueso

Descripción del producto

HC-1538B dry film photoresist rolls

HC-1538B es una fotoresistencia de alta sensibilidad, de 38 μm de película seca optimizada desde HC-1538 para procesos de cobre pesado.

Diseñado para su uso tanto en el equipo de exposición LED estándar como en los sistemas de exposición LDI (Imagen Directa Láser), HC-1538B ayuda a mejorar el rendimiento de las imágenes manteniendo la integridad del patrón durante el revestimiento de cobre.

Especificaciones técnicas

HC-1538B heavy copper plating dry film photoresist micrograph
Parámetros técnicosValor típico
Espesor de la película seca38 µm
Exposición de energía25 mJ/cm² (20–30 mJ/cm²)
Sensibilidad (21ST)7 ± 1
Condiciones de desarrollo0.8–1.2% Na₂CO₃ , 30 ± 2°C , 35–40 s mínimo
Resolución55 µm (SST = 7/21)
Adherencia40 µm (SST = 7/21)
Condicion de desnudamiento5% NaOH, 50°C, 50 s
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Características clave

Fotosensibilidad optimizada

Soporta tanto la exposición LED estándar como los sistemas de exposición LDI.

Rendimiento de planchado de cobre pesado

Diseñado para ayudar a mantener la integridad de la imagen durante el encofrado de cobre pesado.

Eficiencia de la producción

Permite una imagen de menor energía y un procesamiento eficiente.

Aplicaciones

Placa PCB de cobre pesado, procesos de perforación plateada y líneas de imagen LED estándar o LDI.

Formato de producto " Dimensiones

TemaEspecificación
Espesor de película seca38 µm
Ancho de película seca disponible200–800 mm; corte a la anchura especificada
Longitud estándar de la película seca656 ft (200 m)

Condiciones de procesamiento recomendadas

PasoCondiciones recomendadas
Pretratamiento de la JuntaQuitar escombros, aceite y óxidos; enjuague y seque. Se puede utilizar tejido no tejido y tratamiento de pumice.
LaminaciónTemperatura del rodillo 110 ± 10°C; presión 4-5 kg; velocidad manual 1.0–1.5 m/min o velocidad automática 2.0–3.0 m/min.
Mantenerse antes de la exposiciónBajo luz segura naranja: 20 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 5 min.
ExposiciónUtilice una guía de exposición de 21 pasos a 6-8 pasos; adecuado para sistemas de exposición LED y LDI estándar.
Mantenerse después de la exposición23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
Revelado0.8–1.2% anhydrous sodium carbonate at 30 ± 2°C ; presión de pulverización 0.12–0.20 MPa .
Eliminación del resistHidróxido de sodio de 3-5 wt% a 50 ± 5°C; presión de aerosol ≥ 0.2 MPa.

Directrices de seguridad y almacenamiento

  • Utilice el producto sólo bajo iluminación adecuada de seguridad; evite la luz solar directa y la exposición prolongada a la luz blanca.
  • Evite el contacto directo con la capa fotosensible. Si el contacto ocurre, lave a fondo; si entra en los ojos, enjuague con agua y busque atención médica.
  • Use el escape local o general durante la laminación. Use la protección adecuada del ojo y de la mano al manejar desarrollador de alcalina o stripper.
  • Almacene horizontalmente en un lugar fresco y seco a 5–20°C y 40–60% RH. Use dentro de 60 días.

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