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高感度厚铜电镀感光干膜 HC-1538B

产品概述

HC-1538B dry film photoresist rolls

HC-1538B 是在 HC-1538 基础上优化的高感光度、38 μm 干膜光刻胶,适用于厚铜电镀工艺。

HC-1538B 适用于常规 LED 曝光设备和 LDI(激光直接成像)曝光系统,在镀铜过程中保持图形完整性的同时,有助于提高成像效率。

技术规格

HC-1538B heavy copper plating dry film photoresist micrograph
技术参数典型值
干膜厚度38 µm
曝光能量25 mJ/cm² (20–30 mJ/cm²)
灵敏度( 21ST)7 ± 1
显影条件0.8–1.2% Na₂CO₃ , 30 ± 2°C , 35–40 s 最低
分辨率55 µm (SST = 7/21)
附着力40 µm (SST = 7/21)
退膜条件5% NaOH, 50°C, 50 s
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关键特性

优化的感光性

支持标准的LED曝光和LDI曝光系统.

重铜铺设性能

设计目的是在重镀铜时帮助维护图像完整性.

生产效率

实现低能成像和高效加工.

应用领域

重铜PCB电镀,板状透孔工艺,以及LDI或标准LED成像线.

产品格式和尺寸

项目规格
干薄膜厚度38 µm
可用干膜宽度200-800毫米;切至规定的宽度
标准干膜长度656 ft (200 m)

建议的处理条件

步骤建议的条件
董事会预处理清除碎片、油和氧化物;冲洗和干燥;可使用不编织的布料和铝处理。
贴膜滚动温度110±10°C;压力4–5公斤;手动速度1.0–1.5米/min或自动速度2.0–3.0米/min.
曝光前保持状态橙色安全灯下:20±2°C,60±10%RH,5分钟.
曝光在6-8步使用21步的曝光指南;适合标准的LED和LDI曝光系统。
曝光后保持状态23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
显影30±2°C时为碳酸无水钠0.8-1.2 %;喷压0.12-0.20 MPa.
退膜50 ± 5°C时,3 – 5 wt%的氢氧化钠;喷压 ± 0.2 MPa.

安全和储存准则

  • 只有在适当的安全贴膜下才能使用该产品;避免直接阳光和长时间曝光于白光之下.
  • 避免直接接触光敏层。如果发生接触,请彻底洗涤;如果进入眼睛,请用水冲洗,并寻求治疗。
  • 在贴膜过程中使用局部或一般排气,在处理碱性显影者或脱衣舞者时佩戴合适的眼罩和手保护.
  • 水平存储在5-20°C和40-60%RH的冷却干燥处。在60天内使用。

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