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Photorésist en film sec haute sensibilité HC-1538B pour placage de cuivre épais

Présentation du produit

HC-1538B dry film photoresist rolls

HC-1538B est une photorésiste à film sec de 38 μm hautement sensible optimisée à partir de HC-1538 pour les processus de placage de cuivre lourd.

Conçu pour une utilisation sur les équipements d'exposition LED standard et les systèmes d'exposition LDI (Laser Direct Imaging), HC-1538B aide à améliorer le débit d'imagerie tout en maintenant l'intégrité des motifs pendant le placage de cuivre.

Caractéristiques techniques

HC-1538B heavy copper plating dry film photoresist micrograph
Paramètres techniquesValeur typique
Épaisseur du film sec38 µm
Énergie d'exposition25 mJ/cm² (20–30 mJ/cm²)
Sensibilité (21ST)7 ± 1
Développement des conditions0.8–1.2% Na₂CO₃ , 30 ± 2°C , 35–40 s minimum
Résolution55 µm (SST = 7/21)
Adhérence40 µm (SST = 7/21)
Condition de décapage5% NaOH, 50°C, 50 s
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Principales caractéristiques

Photosensibilité optimisée

Prend en charge à la fois les systèmes d'exposition à LED standard et les systèmes d'exposition LDI.

Performance de placage de cuivre lourd

Conçu pour aider à maintenir l'intégrité de l'image pendant le placage de cuivre lourd.

Efficacité de la production

Permet une imagerie à basse énergie et un traitement efficace.

Applications

Plaqué lourd de cuivre PCB, processus plaqués à travers trou, et LDI ou lignes d'imagerie LED standard.

Format et dimensions du produit

PointSpécification
Épaisseur du film sec38 µm
Largeur du film sec disponible200–800 mm; fente à la largeur spécifiée
Longueur standard du film sec656 ft (200 m)

Conditions de traitement recommandées

ÉtapeÉtat recommandé
Prétraitement par le ConseilEnlever les débris, l'huile et les oxydes; rincer et sécher.
LaminageTempérature du rouleau 110 ± 10°C ; pression 4–5 kg; vitesse manuelle 1.0–1.5 m/min ou à vitesse automatique 2.0–3.0 m/min .
Suspension avant expositionSous une lumière orange sans danger: 20 ± 2°C, 60 ± 10 % HR, 5 min.
ExpositionUtiliser un guide d'exposition en 21 étapes à 6-8 étapes; adapté aux systèmes d'exposition standard à DEL et à LDI.
Suspension après exposition23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 10–15 min.
Développement0.8–1.2% carbonate de sodium anhydre à 30 ± 2°C ; pression de pulvérisation 0.12–0.20 MPa .
Décapage3–5 wt% hydroxyde de sodium à 50 ± 5°C ; pression de pulvérisation ≥ 0.2 MPa .

Lignes directrices en matière de sécurité et de stockage

  • N'utilisez le produit que sous un éclairage de sécurité approprié; évitez le soleil direct et l'exposition prolongée à la lumière blanche.
  • Éviter tout contact direct avec la couche photosensible. En cas de contact, laver soigneusement; s'il entre dans les yeux, rincer à l'eau et consulter un médecin.
  • Utilisez les gaz d'échappement locaux ou généraux pendant la laminage. Portez une protection appropriée des yeux et des mains lors de la manipulation du développeur alcalin ou du strip-teaseur.
  • Conserver horizontalement dans un endroit frais et sec à 5 à 20 °C et 40 à 60 % HR. Utiliser dans les 60 jours.

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