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Photorésist en film sec LDI HD-7540 pour circuits imprimés rigides

Présentation du produit

HD-7540 dry film photoresist rolls

HD-7540 est une photorésiste de film sec de 38 μm pour l'imagerie LDI, l'anti-plaquage et la gravure directe sur planches durs.

Il offre une adhérence élevée et une haute résolution pour la formation de motifs stables. Le produit est adapté pour les processus antidérapants et de corrosion directe à bord dur, avec des performances de décapage fiables et une capacité d'imagerie directe laser.

Caractéristiques techniques

HD-7540 LDI hard board dry film photoresist micrograph
PropriétésParamètres
Épaisseur du film38 μm
Énergie d'exposition (SST = 7/21)14 mJ/cm²
Sensibilité (21ST)7 ± 1
Résolution (SST = 6/21)45 μm
Adhérence (SST = 6/21)50 μm
Temps de décapage (3 % NaOH, 50 °C)60 s
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Principales caractéristiques

Compatible LDI

Prise en charge de l'imagerie laser directe avec des performances de patronage stables.

Haute adhérence

Aide à préserver la définition de motif pendant l'anti-plaquage et la gravure.

Haute résolution

Convient pour les applications d'imagerie en circuit dur.

Applications

Tableau dur anti-plaquage, gravure directe, imagerie LDI, et formation de motifs de circuit.

Format et dimensions du produit

PointSpécification
Épaisseur du film sec38 µm
Largeur du film sec disponible150–800 mm; fente à la largeur spécifiée
Longueur standard du film sec656 ft (200 m)

Conditions de traitement recommandées

ÉtapeÉtat recommandé
Prétraitement par le ConseilEnlever les débris, l'huile et les oxydes; rincer et sécher.
LaminageTempérature du rouleau 110 ± 10°C ; pression 4–5 kg; vitesse manuelle 1.0–1.5 m/min ou à vitesse automatique 2.0–3.0 m/min .
Suspension avant expositionSous une lumière jaune/orange sûre: 20 ± 2°C, 60 ± 10% HR, 5 min à 24 h; gardez les planches debout.
ExpositionL'imagerie directe au laser est recommandée; une lampe à DEL ou à mercure peut également être utilisée. Utilisez un guide d'exposition en 21 étapes à 6-8 étapes.
Développement0.8–1.2% carbonate de sodium anhydre à 30 ± 2°C ; pression de pulvérisation 0.12–0.20 MPa .
Décapage3–5 wt% hydroxyde de sodium à 50 ± 5°C ; pression de pulvérisation ≥ 0.2 MPa .

Lignes directrices en matière de sécurité et de stockage

  • Utiliser un éclairage sûr approprié et éviter une exposition prolongée à la lumière.
  • Éviter tout contact direct avec la couche photosensible. Fournir un échappement adéquat pendant la lamination et porter la protection des yeux et des mains pour les produits chimiques alcalins.
  • Conserver horizontalement entre 5 et 20 °C et 40 et 60 % HR; protéger les matériaux non utilisés dans un emballage noir et les utiliser dans les 60 jours.

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