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选择性化学镍金感光干膜 HC-1650

产品概述

HC-1650 dry film photoresist rolls

HC-1650 是一款厚度为 50 μm、可碱性显影的感光干膜,适用于选择性化学镍金(Ni/Au)工艺。

该产品针对高温化学镀环境配制,具有耐化学镍金药液的性能,旨在减少镀液污染并支持生产效率和良率。

技术规格

HC-1650 selective electroless nickel-gold dry film photoresist micrograph
属性参数
胶片厚度50 μm
电影宽度150-800毫米;切至规定的宽度
胶片长度492 ft (150 m)
感光性85 mJ/cm²
最低显影时间50 s
分辨率(ST=5/21)40 μm
分辨率(ST=6/21)50 μm
分辨率(ST=7/21)80 μm
粘合剂(ST = 5/21)35 μm
粘合剂(ST = 6/21)30 μm
粘合剂(ST = 7/11)30 μm
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关键特性

高密度能力

适合要求无电电镀条件.

Ni/Au 化学抗药性

为选择性无电镍/黄金工艺设计.

下层浴室污染

有助于减少无电的Ni/Au溶液的污染.

应用领域

PCB及相关电子制造的选择性无电镍/镀金工艺。

产品格式和尺寸

项目规格
干薄膜厚度50 µm
可用干膜宽度150-800毫米;切至规定的宽度
标准干膜长度492 ft (150 m)

建议的处理条件

步骤建议的条件
董事会预处理清除碎片、石油和氧化物。水冲洗: 10-30 s, 0.15-0.25 MPa; 干燥, 30-50°C, 10-20 s。
贴膜滚温110–130°C;气压0.3–0.5 MPa;速度0.5–2.0 m/min.
曝光前保持状态在黄色安全灯下:23±2°C,60±10%RH,30分钟到48小时;保持板直立.
曝光使用一个 21-s TEP 曝光指南 8 ± 1 s Teps; 曝光能量 85 ± 25 mJ/cm² .
曝光后保持状态23 ± 2°C, 60 ± 10% RH, 15 min to 48 h.
显影30±2°C时为1.0±0.3 wt%的碳酸无水钠;1.5–2.5×最低显影时间;喷雾压力0.12–0.20 MPa.
桶后点数30-60分钟100-160°C;提供130-135°C×30分钟条件作为参考.
退膜3.0 ± 0.5 wt% 氢氧化钠在45–55°C时;1.5–2×最小退膜时间;喷雾压力 → 0.1 MPa.

安全和储存准则

  • 仅用于与PCB有关的模式形成。遵循适用的MSDS和处理安全指示。
  • 避免与光敏层直接接触;在处理显影者和脱衣舞女时佩戴合适的眼睛和手保护.
  • 将未打开的材料横向存放在一个冷却、干燥的地方,温度为5-20°C,低于60%RH;在制造后40天内使用。
  • 将未使用材料保留在黑色防护膜中,限制曝光安全贴膜.

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